发明名称 |
Fe-Pt基烧结体溅射靶及其制造方法 |
摘要 |
一种烧结体溅射靶,其为含有BN的Fe-Pt基烧结体溅射靶,其特征在于,与溅射面水平的面中的六方晶BN(002)面的X射线衍射峰强度相对于与溅射面垂直的截面中的六方晶BN(002)面的X射线衍射峰强度的强度比为2以上。本发明的课题在于提供一种溅射靶,其能够制作热辅助磁记录介质中的磁性薄膜,并且能够减少溅射时产生的粉粒。 |
申请公布号 |
CN104781446A |
申请公布日期 |
2015.07.15 |
申请号 |
CN201380046762.9 |
申请日期 |
2013.10.18 |
申请人 |
吉坤日矿日石金属株式会社 |
发明人 |
荻野真一 |
分类号 |
C23C14/34(2006.01)I;B22F3/14(2006.01)I;C22C1/05(2006.01)I;C22C5/04(2006.01)I;C22C38/00(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/34(2006.01)I |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 |
代理人 |
王海川;穆德骏 |
主权项 |
一种烧结体溅射靶,其为含有BN的Fe‑Pt基烧结体溅射靶,其特征在于,与溅射面垂直的截面中的六方晶BN(002)面的X射线衍射峰强度相对于与溅射面水平的面中的六方晶BN(002)面的X射线衍射峰强度的强度比为2以上。 |
地址 |
日本东京 |