| 发明名称 | 阵列基板及其制作方法、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，该方法包括：在基底上形成栅绝缘层；在所述栅绝缘层上形成数据线图形；在形成数据线图形的结构之上形成像素电极图形；在所述像素电极图形、所述数据线图形和所述栅绝缘层之上形成钝化层，所述钝化层中形成有狭缝，所述狭缝位于期望的像素电极图形与期望的数据线图形之间；对形成了钝化层的结构进行刻蚀，以刻蚀掉可能形成在所述狭缝下方的数据线图形；在钝化层上形成公共电极图形。本发明提供的阵列制作方法，能够使得数据线图形不与像素电极图形连接。 | ||
| 申请公布号 | CN104779201A | 申请公布日期 | 2015.07.15 |
| 申请号 | CN201510176895.9 | 申请日期 | 2015.04.14 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 孙志;宋瑞涛 |
| 分类号 | H01L21/77(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/77(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 李相雨;王怡瑾 |
| 主权项 | 一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：在基底上形成栅绝缘层；在所述栅绝缘层上形成数据线图形；在形成数据线图形的结构之上形成像素电极图形；在所述像素电极图形、所述数据线图形和所述栅绝缘层之上形成钝化层，所述钝化层中形成有狭缝，所述狭缝位于期望的像素电极图形与期望的数据线图形之间；对形成了钝化层的结构进行刻蚀，以刻蚀掉可能形成在所述狭缝下方的数据线图形；在钝化层上形成公共电极图形。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||