发明名称 |
穿硅光学互连 |
摘要 |
一些实现提供了一种半导体器件,其包括第一管芯和光接收器。第一管芯包括背面层,该背面层具有足够薄的厚度以允许光信号穿过该背面层。光接收器被配置成接收通过第一管芯的背面层的若干光信号。在一些实现中,每个光信号源自耦合至第二管芯的对应的光发射器。在一些实现中,背面层是管芯基板。在一些实现中,光信号穿过背面层的基板部分。第一管芯进一步包括有效层。光接收器是有效层的一部分。在一些实现中,半导体器件包括第二管芯,该第二管芯包括光发射器。第二管芯耦合至第一管芯的背面。 |
申请公布号 |
CN104781932A |
申请公布日期 |
2015.07.15 |
申请号 |
CN201380059116.6 |
申请日期 |
2013.11.14 |
申请人 |
高通股份有限公司 |
发明人 |
K·卡斯考恩;S·顾;M·M·诺瓦克 |
分类号 |
H01L25/16(2006.01)I;H04B10/80(2006.01)I |
主分类号 |
H01L25/16(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
唐杰敏 |
主权项 |
一种半导体器件,包括:包括背面层的第一管芯,所述背面层具有的厚度足够薄以允许光信号穿过所述背面层;以及光接收器,其被配置成接收通过所述第一管芯的所述背面层的多个光信号。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |