发明名称 |
用于处理待处理的扁平材料的装置及方法 |
摘要 |
根据本发明的装置1用于以处理液F温和地处理待处理的扁平材料B。装置1具有以下组件:至少一个处理室20,处理液F在处理室20中可累积至浴槽液位M,用于将处理液F供给至所述至少一个处理室20内的至少一个供给装置7,至少一个输送装置30,使用该输送装置30可在所述浴槽液位M下方的输送平面E中的水平位置输送所述待处理的扁平材料B通过所述至少一个处理室20,用于所述处理液F的至少一个接收区4,以及至少一个排放装置40,其各自具有用于所述处理液F的至少一个排放开口41,用于以各排放速率将所述处理液F从所述至少一个处理室20传送进入所述至少一个接收区4。所述至少一个排放装置40各自具有至少一个调节系统43,使用该调节系统43可调节所述处理液F通过所述至少一个排放开口41的排放速率。 |
申请公布号 |
CN104781452A |
申请公布日期 |
2015.07.15 |
申请号 |
CN201380051293.X |
申请日期 |
2013.11.12 |
申请人 |
埃托特克德国有限公司 |
发明人 |
F·维纳;C·托马斯;O·洛伦茨 |
分类号 |
C25D7/06(2006.01)I;C25D17/00(2006.01)I;C23C18/16(2006.01)I |
主分类号 |
C25D7/06(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
苗征;于辉 |
主权项 |
一种用于化学或电解处理的装置(1),其用于以处理液(F)化学或电解处理待处理的扁平材料(B),其具有:‑至少一个处理室(20),处理液(F)在处理室(20)中可累积至浴槽液位(M);‑用于将处理液(F)供给至所述至少一个处理室(20)内的至少一个供给装置(7);‑至少一个输送装置(30),使用该输送装置(30)可在所述浴槽液位(M)下方的输送平面(E)中的水平位置输送所述待处理的扁平材料(B)通过所述至少一个处理室(20);‑用于所述处理液(F)的至少一个接收区(4);以及‑至少一个排放装置(40),其各自具有用于所述处理液(F)的至少一个排放开口(41),用于以各排放速率将所述处理液(F)从所述至少一个处理室(20)传送进入所述至少一个接收区(4);其中所述至少一个排放装置(40)各自具有至少一个调节系统(43),使用该调节系统(43)可调节所述处理液(F)通过所述至少一个排放开口(41)的排放速率。 |
地址 |
德国柏林 |