发明名称 |
在不利条件下执行均匀的剂量注入的系统和方法 |
摘要 |
一种离子注入系统(100)和相关的方法包括扫描仪,配置成将笔状离子束扫描成带状离子束(110),和束弯曲组件(112),配置成接收具有第一方向的带状离子束,并且将带状离子束弯曲以沿第二方向行进。系统还包括末端站,定位在束弯曲组件的下游,其中末端站(102)配置成接收沿第二方向行进的带状离子束,并且进一步配置成将工件(104)固定,离子注入所述工件内。此外,系统包括束电流测量系统(122,124,106),位于束弯曲组件的出口开口处,并且配置成在束弯曲组件的出口开口处测量带状离子束的束电流。 |
申请公布号 |
CN102460629B |
申请公布日期 |
2015.07.15 |
申请号 |
CN200980160148.9 |
申请日期 |
2009.05.29 |
申请人 |
艾克塞利斯科技公司 |
发明人 |
佐藤秀 |
分类号 |
H01J37/244(2006.01)I;H01J37/304(2006.01)I;H01J37/317(2006.01)I |
主分类号 |
H01J37/244(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
吴敬莲 |
主权项 |
一种离子注入系统,包括:束弯曲组件,配置成接收具有第一方向的带状离子束,以及将带状离子束弯曲以沿第二方向行进;末端站,定位在束弯曲组件的下游,其中末端站配置成接收沿第二方向行进的带状离子束,并且进一步配置成将工件固定,离子注入所述工件内;和束电流测量系统,位于束弯曲组件的出口开口处,以及配置成在束弯曲组件的出口开口处测量带状离子束的束电流;其中束电流测量系统包括在其入口处具有一个或多个狭缝的法拉第杯,其中一个或多个狭缝操作以将带状离子束的离子的接收限制在相对于法拉第杯的轴线的预定角度范围;还包括可操作地与法拉第杯相关联的电子式闸门,以及所述闸门被配置成选择地阻止法拉第杯记录束电流。 |
地址 |
美国马萨诸塞州 |