发明名称 |
一种电子枪坩埚定位控制系统及控制方法 |
摘要 |
一种电子枪坩埚定位控制系统及控制方法,属于真空设备技术领域。常规的坩埚定位控制系统只能实现按照单一方向转动进行坩埚换位操作,不能发现并处理坩埚卡埚事件,影响生产并造成废片率的增加。针对上述存在的技术问题,本发明提供一种电子枪坩埚定位控制系统,包括PLC、编码器和电机(含驱动器),在坩埚定位过程中实时监测电机转动状态,发现卡埚后,驱动电机反复换向运行,以摆脱卡死状态,实现坩埚双向定位、卡埚检测及卡埚处理功能。 |
申请公布号 |
CN103092217B |
申请公布日期 |
2015.07.15 |
申请号 |
CN201210591144.X |
申请日期 |
2012.12.29 |
申请人 |
中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 |
发明人 |
戚晖;刘定文;李重茂;梁学慧 |
分类号 |
G05D3/12(2006.01)I;G05B19/05(2006.01)I |
主分类号 |
G05D3/12(2006.01)I |
代理机构 |
沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 |
代理人 |
许宗富 |
主权项 |
一种电子枪坩埚定位控制方法,其特征在于,包括以下步骤:检测外部控制信号,如果是坩埚到位信号,则计算目标位置编码器计数值;设置电机转动方向;启动电机运行后读取编码器计数值,计算电机转动速度;如果电机转动速度低于卡埚判断速度,则对坩埚卡埚进行处理,并返回到检测外部控制信号步骤;如果电机转动速度大于或等于卡埚判断速度,检查编码器计数值是否达到位置:如果没有达到,则重新读取编码器计数值,返回到计算电机转动速度步骤;如果达到,则停止电机转动。 |
地址 |
110168 辽宁省沈阳市浑南新区新源街1号 |