VIEWPORT PROTECTOR FOR AN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE

摘要

진공실의 뷰포트용 보호기는 증폭 광선의 파장을 갖는 방사선 및 상기 증폭 광선에 의해 이온화될 때 EUV 광을 생산하는 타겟 재료의 방출 스펙트럼에 포함된 파장을 갖는 방사선을 흡수하는 기재 재료를 포함하고 있다. 상기 기재 재료는 가시광선 또는 근적외선 광중 하나 이상을 투과시킨다. 상기 보호기는 또한 상기 기재 재료 위에 형성된 층을 포함하고, 상기 층은 상기 증폭 광선의 파장을 갖는 방사선을 반사한다.