发明名称 |
一种透射电镜样品的制备方法及定位方法 |
摘要 |
本发明提供一种透镜样品的制备方法及定位方法,其中,所述制备方法制作了两道紧挨的标记:第一标记和第二标记,且第一标记设置在具有缺陷点的目标位置区域,第二标记根据第一标记位置设置,因此能够设置在距离目标位置较近的位置;所述定位方法能够依据第二标记快速准确地定位目标位置,实现缺陷失效点的精确定位,因此,本发明的制备方法及定位方法简单,成本低,能够有效实现缺陷失效点的精确定位,保证TEM样品制备的成功率。 |
申请公布号 |
CN104777024A |
申请公布日期 |
2015.07.15 |
申请号 |
CN201510199043.1 |
申请日期 |
2015.04.23 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
高林;史燕萍;孙蓓瑶;陈胜;陈强 |
分类号 |
G01N1/28(2006.01)I |
主分类号 |
G01N1/28(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
王宏婧 |
主权项 |
一种透镜样品的制备方法,其特征在于,包括:将一具有缺陷的初始TEM样品放入FIB机台中,并选定目标位置区域;在所述FIB机台中沉积第一保护层到所述目标位置区域,所述第一保护层为第一标记;在所述FIB机台中采用所述FIB机台的离子束线切割第一保护层一侧的区域,形成第二标记;在所述FIB机台中沉积第二保护层以覆盖所述第一标记和第二标记;在所述FIB机台中采用所述FIB机台的离子束切割所述第二保护层的覆盖区域至第二标记;在所述FIB机台中进行所述TEM样品的提取,获得TEM样品。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号 |