| 摘要 |
마이크로리소그래피용 투사 노광 장치는 오브젝트 면에서 오브젝트 필드의 오브젝트 필드 포인트를 조명하는 조명 광학 기기를 포함한다. 조명 광학 기기는 각각의 오브젝트 필드의 오브젝트 필드 포인트에 대해서, 오브젝트 필드 포인트에 연관된 출사 동공을 가지며, sin(γ)은 출사 동공의 가장 큰 한계 각도 값이며, 조명 광학 기기는 오브젝트 필드 포인트에 연관된 출사 동공의 강도 분포를 조절하기 위한 다수의 미러(38s)를 포함하는 다중 미러 어레이(38)를 포함한다. 조명 광학 기기는 다중 미러 어레이(38)의 조명을 일시적으로 안정화시키기 위한 적어도 하나의 광학 시스템(33a, 33b, 33c; 3d; 400; 822; 903; 1010; 1103; 1203)을 더 포함하므로, 각각의 오브젝트 필드 포인트에 대해서, 연관된 출사 동공의 강도 분포는, 연관된 출사 동공의 가장 큰 한계 각도 값sin(γ)을 고려하여 중심 각도값 sin(β)이 2% 보다 적게 표시된 경우, 및/또는 타원율이 2% 보다 적을 경우, 및/또는 폴 밸런스가 2% 보다 적을 경우에, 연관된 출사 동공의 원하는 강도 분포로부터 벗어난다. |
