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본 발명은 CVD법에 의한 박막 형성용 원료로서 바람직한 물성을 가지는 금속 알콕시드 화합물, 특히 금속구리 박막 형성용 원료로서 바람직한 물성을 가지는 금속 알콕시드 화합물을 제공하는 것이며, 구체적으로는 하기 일반식(I)로 표시되는 금속 알콕시드 화합물 및 상기 금속 알콕시드 화합물을 함유해서 이루어지는 박막 형성용 원료를 제공하는 것이다.(식 중, R은 메틸기 또는 에틸기를 나타내고, R는 수소원자 또는 메틸기를 나타내고, R은 탄소수 1~3의 직쇄 또는 분기상의 알킬기를 나타내고, M은 금속원자 또는 규소원자를 나타내고, n은 금속원자 또는 규소원자의 가수를 나타낸다.) |
