FILM FORMING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, FILM FORMING METHOD, AND COMPUTER READABLE STORAGE MEDIUM FOR SUPPLYING A PLURALITY OF REACTION GASES TO SUBSTRATE IN TURN

摘要

진공 용기 내에서 제1 및 제2 반응 가스를 공급하여 박막을 성막하는 성막 장치는, 회전 테이블과, 회전 중심 주위의 제1 각도 위치 및 제2 각도 위치에 있어서 반경 방향으로 각각 연장되는 제1 반응 가스 공급부 및 제2 반응 가스 공급부와, 제1 각도 위치와 제2 각도 위치의 사이의 제3 각도 위치에 설치되는 제1 분리 가스 공급부와, 제1 각도 위치를 포함하는 영역에서 제1 높이를 갖는 제1 공간과, 제2 각도 위치를 포함하는 영역에서 제2 높이를 갖는 제2 공간과, 제3 각도 위치를 포함하는 영역에서 제1 높이 및 제2 높이보다 낮은 높이를 갖는 제3 공간과, 제1 분리 가스를 가열하는 가열 장치를 포함한다.