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<p>패턴형성방법은 (A) 산의 작용에 의해 극성이 증대하여 유기용제를 함유하는 현상액에서의 용해도가 감소할 수 있는 수지 및 (B) 활성광선 또는 방사선 조사에 의해 산을 발생할 수 있는 화합물을 포함하는 유기용제계 현상용 레지스트 조성물로 레지스트막을 형성하는 공정; (ii) 노광 공정; (iii) 유기용제를 함유하는 현상액을 사용하는 현상 공정; 및 (iv) 린스액을 사용하는 세정 공정을 포함하고, 여기서 상기 공정(iv)에 있어서 명세서에 정의된 바와 같은 용제 S1 또는 S2 중 하나 이상을 포함하는 린스액을 사용한다.</p> |
