发明名称 Method for forming an insulating layer pattern
摘要 <p>개구부를 포함하는 절연막 패턴을 형성하기 위하여, 기판 상에 절연막을 형성한다. 상기 절연막 상에 유기 폴리머막 및 하드 마스크막을 형성한다. 상기 하드 마스크막을 패터닝함으로써, 제1 개구를 포함하는 예비 하드 마스크 패턴을 형성한다. 상기 예비 하드 마스크 패턴을 패터닝함으로써, 상기 제1 개구 및 제2 개구를 포함하는 하드 마스크 패턴을 형성한다. 상기 하드 마스크 패턴을 이용하여 상기 유기 폴리머막을 식각함으로써 유기 폴리머 패턴을 형성한다. 상기 유기 폴리머 패턴을 이용하여 상기 절연막을 식각함으로써, 개구부를 포함하는 절연막 패턴을 형성한다. 상기 방법에 의하면, 매우 좁은 폭의 개구부를 포함하는 절연막 패턴을 형성할 수 있다.</p>
申请公布号 KR101536324(B1) 申请公布日期 2015.07.14
申请号 KR20090025658 申请日期 2009.03.26
申请人 发明人
分类号 H01L21/027;H01L21/3205;H01L21/768 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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