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发明名称
Method for reclaiming a surface of a substrate
摘要
<p>본 발명은 기판의 표면을 재생하는 방법과 관련되고, 특히 실리콘 표면과 같은 표면은, 돌출되는 잔여분의 양상, 적어도 제 1 물질의 층을 포함한다. 기판의 표면의 비-돌출된 영역들에 충전 물질을 제공하고 후속 연마에 의해, 상기 재생이 수행될 수 있고, 종래 기술에서 사용된 물질을 소모하는 양면 연마 단계가 더 이상 필요하지 않다.</p>
申请公布号
KR101536334(B1)
申请公布日期
2015.07.13
申请号
KR20090109607
申请日期
2009.11.13
申请人
发明人
分类号
H01L21/02;H01L21/304;H01L27/12
主分类号
H01L21/02
代理机构
代理人
主权项
地址
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