发明名称 图型之形成方法
摘要
申请公布号 TWI491990 申请公布日期 2015.07.11
申请号 TW100139759 申请日期 2011.11.01
申请人 信越化学工业股份有限公司 发明人 畠山润;船津显之
分类号 G03F7/039;H01L21/027;H01L21/265 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种图型之形成方法,其特征为含有:将第1正型光阻材料涂布于基板上,以形成第1光阻膜之步骤;于第1光阻膜上涂布第2正型光阻材料,以形成第2光阻膜之步骤;及,藉由高能量线进行曝光,烘烤(PEB)后,使用显像液将前述第1与第2光阻膜同时显像而形成光阻图型之步骤;该第1光阻材料含有以重复单位的20莫耳%以上100莫耳%以下之范围具有芳香族基且藉由酸而溶解在硷中的第1高分子化合物、与第1溶剂;且该第1溶剂系选自环己酮、环戊酮、甲基-2-正戊酮、3-甲氧基丁醇、3-甲基-3-甲氧基丁醇、1-甲氧基-2-丙醇、1-乙氧基-2-丙醇、丙二醇单甲基醚、乙二醇单甲基醚、丙二醇单乙基醚、乙二醇单乙基醚、丙二醇二甲基醚、二乙二醇二甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯、乳酸乙酯、丙酮酸乙酯、醋酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、醋酸第三丁酯、丙酸第三丁酯、丙二醇单第三丁基醚乙酸酯、γ-丁内酯中的单独1种或混合至少2种以上者;该第2正型光阻材料含有第2高分子化合物、与第2溶剂,该第2溶剂系不溶解第1光阻膜之碳数3~8的烷醇;且该烷醇系选自正丙醇、异丙醇、1-丁醇、2-丁醇、异丁醇、第三丁醇、1-戊醇、2-戊醇、3-戊醇、第三戊醇、新戊醇、2-甲基-1-丁醇、3-甲基-1-丁醇、3-甲基-3- 戊醇、环戊醇、1-己醇、2-己醇、3-己醇、2,3-二甲基-2-丁醇、3,3-二甲基-1-丁醇、3,3-二甲基-2-丁醇、2-二乙基-1-丁醇、2-甲基-1-戊醇、2-甲基-2-戊醇、2-甲基-3-戊醇、3-甲基-1-戊醇、3-甲基-2-戊醇、3-甲基-3-戊醇、4-甲基-1-戊醇、4-甲基-2-戊醇、4-甲基-3-戊醇、1-庚醇、环己醇、辛醇中的单独1种或混合2种以上者。
地址 日本