发明名称 覆盖膜
摘要
申请公布号 TWI491499 申请公布日期 2015.07.11
申请号 TW099107190 申请日期 2010.03.12
申请人 电气化学工业股份有限公司 发明人 岩崎贵之;藤村彻夫;佐佐木彰
分类号 B32B27/08;C07F17/00;C08K5/16 主分类号 B32B27/08
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;丁国隆 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 一种覆盖膜,其系热封于容纳电子零件的载体带内,该覆盖膜具有:基材层;由含有50质量%以上的密度0.900至0.940×103kg/m3之金属茂直链状低密度聚乙烯树脂的树脂组成物所构成之中间层;封胶层(sealant layer),其系由含50至85质量%烯烃成分的乙烯系共聚合树脂所构成之封胶层,其中乙烯系共聚合树脂系选自由乙烯-丙烯酸酯无规共聚合树脂、乙烯-甲基丙烯酸酯无规共聚合树脂、苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚合物之氢化物、及苯乙烯-异戊二烯-苯乙烯嵌段共聚合物之氢化物所构成之群组;及在封胶层侧表面具有抗静电层,该抗静电层系由将20~60质量%之侧链具有四级铵盐的阳离子性高分子型抗静电剂分散于40~80质量%的丙烯酸系树脂中而成的树脂组成物所构成,该四级铵盐为以下一般式所示:(式中,A表示氧原子或亚胺基;R1表示氢原子或甲 基;R2、R3及R4表示可各自相同或相异之碳原子数1至18之烷基;R5表示碳原子数1至4之伸烷基;X-表示阴离子,且m表示1至5000范围之整数)。
地址 日本