发明名称 固定嵌件、电极组件及电浆处理腔室
摘要
申请公布号 TWI492672 申请公布日期 2015.07.11
申请号 TW099108695 申请日期 2010.03.24
申请人 兰姆研究公司 发明人 哈汀 蓝道;凯尔 强纳森;赖托 道恩
分类号 H05H1/24;C23C16/455;H01L21/3065 主分类号 H05H1/24
代理机构 代理人 许峻荣 新竹市民族路37号10楼
主权项 一种矽基喷淋头电极,包括一背侧、一前侧、复数喷淋头通路、复数背侧凹部、及复数背侧嵌件,其中:该复数喷淋头通路系从该矽基喷淋头电极之该背侧延伸至该矽基喷淋头电极之该前侧;该复数背侧凹部系形成于该矽基喷淋头电极之该背侧中,该等背侧凹部在该矽基喷淋头电极之该前侧与该凹部之间留下一厚度之矽基电极材料;该等背侧嵌件系配置于沿着该矽基喷淋头电极之该背侧形成的该等背侧凹部中;该等背侧嵌件包括一螺纹外周、一螺纹内周、及一工具接合部分,该工具接合部分系形成于该螺纹内周中;该背侧嵌件之该工具接合部分包括复数转矩接受槽,该等转矩接受槽系环绕该背侧嵌件之旋转轴线排列;及该等转矩接受槽系排列成藉由相对配对之转矩接受槽以避免该背侧嵌件之绕轴线旋转。
地址 美国