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经营范围
发明名称
增进光及/或雷射烧结之缓冲层
摘要
申请公布号
TWI492303
申请公布日期
2015.07.11
申请号
TW099109236
申请日期
2010.03.26
申请人
应用奈米科技控股股份有限公司;石原药品股份有限公司
发明人
亚尼夫 立维;杨墨熹;拉斯登 彼得
分类号
H01L21/3205;H01L21/768
主分类号
H01L21/3205
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
一种于基材上沈积导电性线路的方法,其包含:于该基材上涂覆具有低热导系数之材料层;在该具有低热导系数之材料层上沈积导电性墨液薄膜;及光烧结该导电性墨液之薄膜。
地址
日本
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