涂布、显像装置、显像方法及记忆媒体

主权项

一种涂布、显像装置，用以在基板上形成光阻膜，且显像被曝光之基板，其特征为：具备显像模组、洗净模组和将藉由上述显像模组被显像之基板搬运至上述洗净模组之搬运机构，上述显像模组具备：气密之处理容器，其系用以形成处理氛围；调温板，其系被设置在该处理容器内，用以载置基板，并予以冷却；氛围气体供给部，其系用以藉由对上述处理容器内之基板表面供给显像液之雾气而形成液膜，来进行显像处理；及乾燥部，其系为了停止藉由上述显像液之液膜所进行之显像，使上述基板乾燥，上述乾燥部系为了使上述液膜乾燥来停止藉由该液膜所进行之显像，藉由将处理容器内之处理氛围开放成外部氛围的容器开关机构而构成，上述搬运机构系将藉由上述乾燥部被乾燥之基板从上述处理容器搬出而搬运至上述洗净模组，上述洗净模组具备：载置部，其系用以载置基板；和洗净液供给部，其系用以对被载置在该载置部之基板供给洗净液，而进行用以对上述光阻膜解像图案之洗净处理。