发明名称 |
基板于处理期间之光谱监控的适合度 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI492005 |
申请公布日期 |
2015.07.11 |
申请号 |
TW098135987 |
申请日期 |
2009.10.23 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
大卫杰弗瑞杜鲁;史威克柏格斯劳A;班维纽多明尼克J;李哈利Q |
分类号 |
G05B19/18;B24B49/12;B24B37/04 |
主分类号 |
G05B19/18 |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼 |
主权项 |
一种电脑实施之基板监控方法,其包含以下步骤:用一原位光学监控系统获得一序列现时光谱,来自该序列现时光谱之每一现时光谱为自一基板反射之光的一光谱,该基板具有一经受研磨之最外层及至少一个下伏层;比较每一现时光谱与来自一第一参考光谱库之复数个参考光谱且判定一第一最佳匹配参考光谱以产生一第一序列之第一最佳匹配参考光谱;比较每一现时光谱与来自一第二参考光谱库之复数个参考光谱且判定一第二最佳匹配参考光谱以产生一第二序列之第二最佳匹配参考光谱;判定对于该第一序列之一第一适合度;判定对于该第二序列之一第二适合度;及基于该第一序列、该第二序列、该第一适合度及该第二适合度判定一研磨终点。
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地址 |
美国 |