附有氧化物层之基体及其制造方法

主权项

一种附有经图案化之氧化物层之基体之制造方法，其包括如下步骤：于基体上依序形成具有透明导电性之氧化物层、金属层；自金属层之外表面侧，向金属层照射能量密度为0.3~10J/cm2、重复频率为1~100kHz、脉冲宽度为1ns~1μs之脉冲雷射光，将脉冲雷射光之照射部位之金属层与氧化物层去除；以及藉由蚀刻将基体整面之金属层去除。