发明名称 用于光阻之抗反射组合物
摘要
申请公布号 TWI491995 申请公布日期 2015.07.11
申请号 TW099137322 申请日期 2010.10.29
申请人 马克专利公司 发明人 姚晖蓉;林观阳;尼瑟 马克O
分类号 G03F7/09;C08G63/12;H01L21/027 主分类号 G03F7/09
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种用于光阻层之抗反射涂层组合物,其包含聚合物、交联剂及酸产生剂,其中该聚合物包括至少一个结构1之单元, 其中,X系选自非芳族(A)基团、芳族(P)基团及其混合物之连接基;R'系结构(2)之基团;其中R1及R2系H且L系氟化烷基,且进一步该结构(2)为衍生自以氟化缩水甘油醚封端反应物将羧基封端;R"系独立地选自氢或结构(2)之基团,其中R1及R2系H且L系氟化烷基,且进一步该结构(2)系衍生自以氟化缩水甘油醚封端反应物将羧基封端;且Y'系独立地为(C1-C20)伸烃基连接基。
地址 德国