| 发明名称 |
含有含脂肪族环与芳香族环之树脂的微影蚀刻用光阻下层膜形成组成物 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI491996 |
申请公布日期 |
2015.07.11 |
| 申请号 |
TW099127587 |
申请日期 |
2010.08.18 |
| 申请人 |
日产化学工业股份有限公司 |
发明人 |
新城彻也;西卷裕和;境田康志;桥本圭佑 |
| 分类号 |
G03F7/11;C08G59/14;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/11 |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
| 主权项 |
一种微影蚀刻用光阻下层膜形成组成物，其为含有脂环式环氧聚合物(A)、与缩合环式芳香族羧酸及单环式芳香族羧酸(B)之反应生成物(C)，且前述脂环式环氧聚合物(A)为，具有下述式(1)：
(T表示聚合物之主链具有脂肪族环之重覆单位构造，E表示环氧基或具有环氧基之有机基)所表示的重覆构造单位。 |
| 地址 |
日本 |
