发明名称 Sr-Ti-O系膜之成膜方法
摘要
申请公布号 TWI492301 申请公布日期 2015.07.11
申请号 TW097133923 申请日期 2008.09.04
申请人 东京威力科创股份有限公司;尔必达存储器股份有限公司 发明人 河野有美子;有马进;柿本明修;广田俊幸;清村贵利
分类号 H01L21/316;C23C16/40;H01L21/8242;H01L27/108 主分类号 H01L21/316
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种Sr-Ti-O系膜之成膜方法,属于在基板上形成Sr-Ti-O系膜之Sr-Ti-O系膜之成膜方法,其特征为:包含在处理容器内配置基板之步骤;和加热基板之步骤;和在保持基板被加热之状态下,直接在上述处理容器内将气体状之Ti原料、气体状之Sr原料以及气体状之氧化剂导入至上述处理容器内而在基板上形成Sr-Ti-O系膜之步骤,于上述Sr-Ti-O系膜之成膜时,各执行多次SrO膜成膜阶段和TiO膜成膜阶段;该SrO膜成膜阶段,包含将气体状之Sr原料导入至上述处理容器内而使Sr吸附于基板上之步骤,和将气体状之H2O氧化剂导入至上述处理容器内使Sr氧化之步骤,停止该气体状之H2O氧化剂导入,接着将气体状之O3氧化剂导入至上述处理容器内和于该些之后清除处理容器内之步骤;和该TiO膜成膜阶段,包含将气体状之Ti原料导入至上述处理容器内而使Ti吸附于基板上之步骤,和将气体状之O3氧化剂导入至上述处理容器内使Ti膜氧化之步骤,和于该些之后清除处理容器内之步骤。
地址 日本