发明名称 用于光电半导体制程的沉积设备及其遮覆框
摘要
申请公布号 TWI491758 申请公布日期 2015.07.11
申请号 TW102117056 申请日期 2013.05.14
申请人 世界中心科技股份有限公司 发明人 金文焕;金东熙;李一中;刘芳钰
分类号 C23C16/04 主分类号 C23C16/04
代理机构 代理人 刘育志 台北市大安区敦化南路2段77号19楼
主权项 一种用于光电半导体制程的沉积设备,包含:一加热器,其具有一第一承载面和设于该第一承载面外周围的一第二承载面,该第一承载面用于支撑一玻璃基板;以及一遮覆框,设置于该加热器的第二承载面上,该遮覆框具有围绕中空区域而形成的一框形本体,该玻璃基板放置于该框形本体所围绕的区域内,其中该遮覆框的内框周面最外侧缘与该加热器的第一承载面侧缘基本上切齐。
地址 台中市梧栖区中港加工出口区经三路1号