| 摘要 |
1. Композиция для умывания для топического нанесения, содержащая:a) по меньшей мере одно поверхностно-активное вещество,b) цинковую соль глюконовой кислоты,c) соль или производное глицирризиновой кислоты или глицирретиновой кислоты.2. Композиция для умывания для топического нанесения по п. 1, в которой:a) поверхностно-активное вещество представляет собой по меньшей мере одно анионное поверхностно-активное вещество,b) цинковая соль глюконовой кислоты представляет собой глюконат цинка,c) соль или производное глицирризиновой кислоты или глицирретиновой кислоты представляет собой глицирризат дикалия.3. Композиция для умывания по п. 2, в которой по меньшей мере одно анионное поверхностно-активное вещество выбирают из сульфатов, изетионатов, олефинсульфонатов, тауратов и производных аминокислот.4. Композиция для умывания по п. 3, в которой по меньшей мере одно анионное поверхностно-активное вещество выбирают из мелкодисперсного сульфата цинка, кокоилизетионата натрия, метиллауроилизетионата натрия, метилкокоилтаурата натрия, С-Сα-олефинсульфонатов, предпочтительно в виде натриевой соли.5. Композиция по п. 2, в которой концентрация анионных поверхностно-активных веществ составляет от 0,25% до 20% активного вещества (АВ) относительно общей массы композиции, предпочтительно от 1% до 10% АВ.6. Композиция по п. 1, в которой концентрация цинковой соли глюконовой кислоты, выраженная в виде массовой доли относительно общей массы композиции, составляет от 0,1 до 1%, предпочтительно от 0,15 до 0,3%.7. Композиция по п. 1, в которой концентрация соли или производного глицирризиновой кислоты, или глицирретиновой кислоты, выраженная в виде массо� |
