发明名称 AQUEOUS, ACID BATH AND METHOD FOR THE ELECTROLYTIC DEPOSITION OF COPPER
摘要 특히, 블라인드 마이크로 비아 (BMV) 및 트렌치에서 매우 균일한 구리 성막물을 형성시키기 위해, 구리의 전해 성막을 위한 수성 산욕이 제공되고, 상기 욕은 적어도 1 종의 구리 이온 공급원, 적어도 1 종의 산 이온 공급원, 적어도 1 종의 광택제 화합물 및 적어도 1 종의 레벨러 화합물을 함유하고, 적어도 1 종의 레벨러 화합물은 합성적으로 생성된 비기능화된 펩티드 및 합성적으로 생성된 기능화된 펩티드 및 합성적으로 생성된 기능화된 아미노산을 포함하는 그룹으로부터 선택된다.
申请公布号 KR101536029(B1) 申请公布日期 2015.07.10
申请号 KR20107019751 申请日期 2009.04.27
申请人 아토테크더치랜드게엠베하 发明人 브룬너 하이코;뢸프스 베른트;로데 디르크;플리트 토마스
分类号 C25D1/02;C25D3/38 主分类号 C25D1/02
代理机构 代理人
主权项
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