| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur reaktiven Abscheidung von Oxinitrid- oder Oxicarbonitrid-Schichten mittels Magnetronsputtern, wobei der Fluss des Prozessgases, welches ein Reaktivgas oder eine Reaktivgasmischung und ein Arbeitsgas umfasst, entlang des Racetracks 11 des Magnetrons 2 in Segment-Prozessgasflüsse mit zugehörigen Plasmazonensegmenten 10 geteilt ist, wobei ein Segment-Prozessgasfluss aus den Gasflüssen der Prozessgaskomponenten in dem jeweiligen Plasmazonensegment 10 gebildet wird, und die Prozessgaskomponenten über zumindest zwei Gaskanäle 6, von denen zumindest einer segmentiert ausgebildet ist, in einen Prozessraum eingelassen werden. Es wird ein Verfahren beschrieben, das es gestattet, sowohl eine gewünschte Stöchiometrieverteilung als auch eine gewünschte Verteilung bezüglich der Schichtdicke über die gesamte Substratbreite einzustellen.</p> |
