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<p>신규한 독-차단 조성물 및 상기 조성물을 사용하여 독-차단층을 형성하는 방법이 제공된다. 조성물은 전형적인 마이크로리소그래피 공정에서 사용되는 전형적인 조성물을 포함하지만, 독-차단 첨가제가 상기 조성물에 포함된다. 바람직한 첨가제는 하나 이상의 블록킹된 이소시아네이트를 포함하는 화합물이다. 특정 온도에서 가열시, 블록킹 그룹이 이소시아네이트로부터 방출되어, 전형적인 절연층에 의하여 생성된 독성 아민과 매우 반응성인 부분을 남긴다.</p> |
