FILM FORMATION APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, FILM FORMATION METHOD AND STORAGE MEDIUM
摘要
<p>성막 장치는, 진공 용기 내에서 서로 반응하는 적어도 2종류의 반응 가스를 순서대로 기판의 표면에 공급하고 또한 이 공급 사이클을 실행함으로써 반응 생성물의 층을 다수 적층하여 박막을 형성한다. 당해 성막 장치는 회전 테이블과, 기판 적재 영역과, 제1 반응 가스 공급부 및 제2 반응 가스 공급부와, 분리 영역과, 중심부 영역과, 배기구와, 천장면과, 기판 냉각부를 구비한다.</p>
