一种磷酸硅玻璃薄膜的等离子体化学气相沉积方法

摘要

本发明提供了一种磷酸硅玻璃薄膜的等离子体化学气相沉积方法，其特征在于所述方法包括以下步骤：执行磷酸硅玻璃薄膜沉积的预步骤；磷酸硅玻璃薄膜沉积；其中，磷酸硅玻璃薄膜沉积的预步骤中通入一反应气体，反应气体为磷化氢气体，所述磷化氢气体的流量为50～100标况毫升/分钟。在本发明提供的磷酸硅玻璃薄膜的等离子体化学气相沉积方法中，通过降低反应气体磷化氢的流量，使得含磷量高的磷酸硅玻璃（P-rich PSG）膜层更加致密，磷酸硅玻璃（PSG）薄膜与含磷量高的磷酸硅玻璃（P-rich PSG）膜层的附着性更好，减少缺陷颗粒的产生，从而提高了产品的良率。

主权项

一种磷酸硅玻璃薄膜的等离子体化学气相沉积方法，其特征在于所述方法包括以下步骤：执行磷酸硅玻璃薄膜沉积的预步骤；磷酸硅玻璃薄膜沉积；其中，所述磷酸硅玻璃薄膜沉积的预步骤包括：在反应腔体上形成含硅量高的氧化硅薄膜，所述含硅量高的氧化硅薄膜的折射率为1.5；在含硅量高的氧化硅膜层上形成氧化硅薄膜；在氧化硅膜层上形成含磷量高的磷酸硅玻璃薄膜，所述含磷量高的磷酸硅玻璃薄膜的含磷量为5％～7％；其中，含磷量高的磷酸硅玻璃薄膜沉积的步骤中通入一反应气体，反应气体为磷化氢气体，所述磷化氢气体的流量为50～100标况毫升/分钟。