发明名称 HIGHLY ABSORBING LAYER SYSTEM, METHOD FOR PRODUCING THE LAYER SYSTEM AND SUITABLE SPUTTERING TARGET THEREFOR
摘要 <p>본 발명은 2 이상의 층, 이 중 하나의 층은 관찰자와 대면하며 유전체로부터 만들어진 반사방지층이고, 1 이상의 다른 층은 관찰자 반대쪽에 있는 흡수체층으로 이루어진, 고 흡수층 시스템에 관한 것이다. 나아가, 본 발명은 아르곤을 포함하는 스퍼터링 환경에서 스퍼터링 타겟의 DC 또는 MF 스퍼터링에 의한 흡수체층의 증착을 포함하는, 층 시스템의 제조 방법 및 상기 방법을 수행함에 있어서 적합한 스퍼터링 타겟에 관한 것이다.</p>
申请公布号 KR20150079811(A) 申请公布日期 2015.07.08
申请号 KR20157013732 申请日期 2013.10.15
申请人 HERAEUS MATERIALS TECHNOLOGY GMBH & CO. KG;FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. 发明人 SCHLOTT MARTIN;KASTNER ALBERT;SCHULTHEIS MARKUS;WAGNER JENS;SCHNEIDER BETZ SABINE;DEWALD WILMA;SZYSZKA BERND;SITTINGER VOLKER
分类号 G02B5/00;C23C14/34;F24J2/46;F24J2/48;G02B1/116;G02B5/22 主分类号 G02B5/00
代理机构 代理人
主权项
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