托架盖

摘要

本发明描述新颖的半导体处理托架及包含此类托架的设备的实例。这些托架经特定配置以向半导体衬底提供均匀的热传递且减少维修复杂性及/或频率。具体来说，托架可包含可移除盖，所述可移除盖定位于所述托架的金属载盘上方。所述可移除盖经配置以维持其面向衬底的表面的一致且均匀的温度分布，尽管所述载盘的上表面(其支撑所述盖且与所述盖热连通)可具有更不均匀的温度分布。所述盖可由某些陶瓷材料制成且定形为薄板。这些材料可耐得住处理环境且在许多次处理循环之后保持其热特性。所述盖可轻易从所述载盘移除且用一个新盖替换，而无需对整个设备进行大规模拆卸。

主权项

一种托架，其用于将半导体衬底支撑于用于处理所述半导体衬底的设备中，所述托架包括：金属载盘，其包括上表面，所述上表面用于向所述半导体衬底提供热；及可移除陶瓷盖，其用于在所述设备中处理所述半导体衬底期间向定位于所述可移除陶瓷盖的面向衬底的表面上方的所述半导体衬底提供实质上均匀的热传递，所述可移除陶瓷盖被定位在所述金属载盘的所述上表面上方，其中所述金属载盘的所述上表面包括突起穿过所述可移除陶瓷盖中的开口的一组支撑件，所述组支撑件经配置以将所述半导体衬底支撑于所述可移除陶瓷盖的所述面向衬底的表面上方的平均预定距离处。