| 发明名称 |
MICROLITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE |
| 摘要 |
물체면(object plane)에 배열된 패턴(pattern)을 이미지면(image plane)에 결상하기 위한 마이크로리소그래피 투영 대물 렌즈가 그러한 투영 대물 렌즈 내의 오류광 억제와 관련하여 기술된다. |
| 申请公布号 |
KR20150080000(A) |
申请公布日期 |
2015.07.08 |
| 申请号 |
KR20157016310 |
申请日期 |
2006.05.23 |
| 申请人 |
CARL ZEISS SMT GMBH |
发明人 |
FELDMANN HEIKO;KRAEHMER DANIEL;PERRIN JEAN CLAUDE;KALLER JULIAN;DODOC AURELIAN;KAMENOV VLADIMIR;CONRADI OLAF;GRUNER TORALF;OKON THOMAS;EPPLE ALEXANDER |
| 分类号 |
G03F7/20;G02B17/08 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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