| 发明名称 | 等离子体涂覆设备和基材表面的涂覆或处理方法 | ||
| 摘要 | 提出一种用于涂覆或处理基材(3)表面的等离子体涂覆设备，其具有可被抽真空的且其中可安放有基材(3)的加工室(2)，且具有用于通过加热过程气体来产生等离子体束(5)的等离子体燃烧器(4)，其中等离子体燃烧器(4)具有喷嘴(41)，等离子体束(5)通过喷嘴从等离子体燃烧器(4)射出，并沿纵轴线(A)在加工室(2)内延伸，其中在喷嘴(41)的下游在加工室(2)内设有机械的限界装置(12)，其沿纵轴线(A)延伸，并且保护等离子体束(5)以免受不希望有的侧向颗粒侵入。还提出一种相应的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN102388680B | 申请公布日期 | 2015.07.08 |
| 申请号 | CN201080006467.7 | 申请日期 | 2010.01.15 |
| 申请人 | 苏舍美特科公司 | 发明人 | M·金德拉特;P·吉蒂内;C·霍伦施泰因 |
| 分类号 | H05H1/34(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I | 主分类号 | H05H1/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 李永波;杨国治 |
| 主权项 | 一种用于涂覆或处理基材（3）的表面的等离子体涂覆设备，具有可被抽真空的且可在其中安放该基材（3）的加工室（2），且具有用于通过加热过程气体来产生等离子体束（5）的等离子体燃烧器（4），其中该等离子体燃烧器（4）具有喷嘴（41），等离子体束（5）通过该喷嘴从该等离子体燃烧器（4）射出，并且可沿纵轴线（A）在该加工室（2）内延伸，其特征在于，在该喷嘴（41）的下游在该加工室（2）内设有机械的限界装置（12），该限界装置沿纵轴线（A）延伸，并且保护等离子体束（5）以免受不希望有的侧向颗粒侵入，其中，所述等离子体涂覆设备包括用于保持基材（3）的基材支座（8），其中该限界装置（12）延伸经过喷嘴（41）和基材支座（8）之间距离的至少80%。 | ||
| 地址 | 瑞士沃伦 | ||