发明名称 一种晶圆清洗装置
摘要 本发明公开了一种晶圆清洗装置,该晶圆清洗装置包括清洗槽、晶圆固定架、多个内侧喷嘴和多个外侧喷嘴,该晶圆固定架设置在该清洗槽中用于支撑待清洗的晶圆,该多个内侧喷嘴和该多个外侧喷嘴设置在该清洗槽的底部,该多个内侧喷嘴和该多个外侧喷嘴的方向与该晶圆表面不平行。通过本发明的晶圆清洗装置,消除了现有技术的晶圆清洗装置的外侧喷嘴造成的线形微粒缺陷,提高了晶圆的良率。
申请公布号 CN102569010B 申请公布日期 2015.07.08
申请号 CN201010600605.6 申请日期 2010.12.22
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 发明人 谢志勇
分类号 H01L21/00(2006.01)I;B08B3/04(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 北京市磐华律师事务所 11336 代理人 董巍;徐丁峰
主权项 一种晶圆清洗装置,所述晶圆清洗装置包括清洗槽、晶圆固定架、多个内侧喷嘴和多个外侧喷嘴,所述晶圆固定架设置在所述清洗槽中用于支撑待清洗的晶圆,所述多个内侧喷嘴和所述多个外侧喷嘴设置在所述清洗槽的底部,其特征在于,所述多个内侧喷嘴设置在所述清洗槽的底部的中间位置,所述多个外侧喷嘴设置在所述清洗槽底部的外侧的位置,所述多个内侧喷嘴和所述多个外侧喷嘴的方向与所述晶圆表面不平行;所述多个内侧喷嘴朝向所述晶圆的一侧,所述多个外侧喷嘴朝向所述晶圆的另一侧。
地址 201203 上海市浦东新区张江路18号