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发明名称
Methods for forming metal fluoride film
摘要
<p>In a method for forming a metal fluoride film, a metal fluoride film is formed on a substrate (15) by sputtering using a metal target (6) and a mixed gas containing O 2 gas and a reactive gas being a fluorocarbon gas.</p>
申请公布号
EP2535438(B1)
申请公布日期
2015.07.08
申请号
EP20120169802
申请日期
2012.05.29
申请人
CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人
AKIBA, HIDEO
分类号
C23C14/06;C23C14/00
主分类号
C23C14/06
代理机构
代理人
主权项
地址
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