| 发明名称 | 高效高质型酸性氯化铜线路板蚀刻液 | ||
| 摘要 | 一种高效高质型酸性氯化铜线路板蚀刻液，包括氯化铜、蚀刻子液、氧化剂，由自动检测投料控制机对蚀刻液中的游离氢离子浓度、氧化还原电位、比重参数进行检测并控制各组分的投放量，使溶液中的铜离子浓度、游离氢离子浓度和氧化还原电位达到设定的数值，其特征在于所述蚀刻子液按重量百分比包含：HCl 1％～36.5％；选自FeCl<sub>3</sub>、FeCl<sub>2</sub>、Fe、FeO和Fe<sub>2</sub>O<sub>3</sub>中的一种或多种化合物0.01％～45％；其余为水，所得的蚀刻液生产工艺控制参数设定：游离氢离子浓度为0.1～5.0M，氧化还原电位为380～700mV，铜离子浓度为1～180g/L；氯化铜初始投放量B根据以下公式计算得到：B＝(134.5/63.5)×铜离子浓度设定值A。 | ||
| 申请公布号 | CN104762620A | 申请公布日期 | 2015.07.08 |
| 申请号 | CN201510117884.3 | 申请日期 | 2015.03.17 |
| 申请人 | 叶涛 | 发明人 | 叶涛 |
| 分类号 | C23F1/18(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 广州知友专利商标代理有限公司 44104 | 代理人 | 刘小敏 |
| 主权项 | 一种高效高质型酸性氯化铜线路板蚀刻液，包括氯化铜、蚀刻子液、氧化剂，由自动检测投料控制机对蚀刻液中的游离氢离子浓度、氧化还原电位、比重参数进行检测并控制各组分的投放量，使溶液中的铜离子浓度、游离氢离子浓度和氧化还原电位达到设定的数值，其特征在于所述蚀刻子液按重量百分比包含：HCl 1％～36.5％；选自FeCl<sub>3</sub>、FeCl<sub>2</sub>、Fe、FeO和Fe<sub>2</sub>O<sub>3</sub>中的一种或多种化合物0.01％～45％；其余为水，所得的蚀刻液生产工艺控制参数设定：游离氢离子浓度为0.1～5.0M，氧化还原电位为380～700mV，铜离子浓度为1～180g/L；氯化铜初始投放量B根据以下公式计算得到：B＝(134.5/63.5)×铜离子浓度设定值A。 | ||
| 地址 | 510230 广东省广州市海珠区滨江中路警安街5号2001房 | ||