发明名称 |
一种去除不利OPC修正的图形预处理方法 |
摘要 |
本发明公开一种去除不利OPC修正的图形预处理方法,包括如下步骤:设定一短斜边尺寸选取标准;对图形片段中存在短斜边的图形进行筛选,选取符合所述短斜边尺寸选取标准的目标图形;将所述目标图形中的短斜边向其所在的目标图形内扩展形成矩形;在所述矩形外扩展形成最小边界框区域,所述最小边界框区域能够覆盖所述目标图形中的短斜边;合并所述目标图形和所述最小边界框区域,以去除所述目标图形中的短斜边。本发明通过扩展短斜边并最终把最小边界框区域和目标图形合并,从而去除不利OPC修正的短斜边图形,去除这些短斜边使之变成正交直角边图形后,OPC修正的结果能更好的符合预期。 |
申请公布号 |
CN103336406B |
申请公布日期 |
2015.07.08 |
申请号 |
CN201310264798.6 |
申请日期 |
2013.06.27 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
何大权;魏芳;张旭升 |
分类号 |
G03F1/36(2012.01)I |
主分类号 |
G03F1/36(2012.01)I |
代理机构 |
上海申新律师事务所 31272 |
代理人 |
竺路玲 |
主权项 |
一种去除不利OPC修正的图形预处理方法,其应用于基于模型OPC前处理原始版图之后,以及基于模型OPC修正图形之前,其特征在于,包括如下步骤:设定一短斜边尺寸选取标准;对图形片段中存在短斜边的图形进行筛选,选取符合所述短斜边尺寸选取标准的目标图形;将所述目标图形中的短斜边向其所在的所述目标图形内扩展形成矩形;在所述矩形外扩展形成最小边界框区域,所述最小边界框区域能够覆盖所述目标图形中的短斜边;合并所述目标图形和所述最小边界框区域,以去除所述目标图形中的短斜边;其中,所述短斜边尺寸选取标准包括满足短斜边长度小于15nm,短斜边相邻两边长度均大于100nm,以及短斜边和短斜边相邻两边之间的夹角分别为90°<α<180°、90°<β<180°。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 |