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发明名称
APPARATUS FOR SPATIAL ATOMIC LAYER DEPOSITION WITH RECIRCULATION AND METHODS OF USE
摘要
<p>복수의 세장형 가스 포트들, 및 응축되고, 저장되고, 그리고/또는 재순환되도록, 프로세싱 챔버로부터 가스들을 운반하기 위해 다수의 도관들과 소통하는 펌프 포트들을 포함하는 원자 층 증착 장치 및 방법들이 제공된다.</p>
申请公布号
KR20150079969(A)
申请公布日期
2015.07.08
申请号
KR20157014887
申请日期
2013.11.06
申请人
APPLIED MATERIALS, INC.
发明人
YUDOVSKY JOSEPH;MUNGEKAR HEMANT P.;COX MICHAEL S.;YUAN ZHENG
分类号
C23C16/455
主分类号
C23C16/455
代理机构
代理人
主权项
地址
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