发明名称 APPARATUS FOR SPATIAL ATOMIC LAYER DEPOSITION WITH RECIRCULATION AND METHODS OF USE
摘要 <p>복수의 세장형 가스 포트들, 및 응축되고, 저장되고, 그리고/또는 재순환되도록, 프로세싱 챔버로부터 가스들을 운반하기 위해 다수의 도관들과 소통하는 펌프 포트들을 포함하는 원자 층 증착 장치 및 방법들이 제공된다.</p>
申请公布号 KR20150079969(A) 申请公布日期 2015.07.08
申请号 KR20157014887 申请日期 2013.11.06
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 YUDOVSKY JOSEPH;MUNGEKAR HEMANT P.;COX MICHAEL S.;YUAN ZHENG
分类号 C23C16/455 主分类号 C23C16/455
代理机构 代理人
主权项
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