提高射线处理设备照射剂量均一性的方法及其设备

摘要

本发明涉及一种能提高射线处理设备照射剂量均一性的方法及其设备,通过在射线处理腔内增设一种具有反射射线能力较强、由低原子质量数、高密度材料制成的环形反射体，工作时照射在环形反射体上的射线发生反射后照射到射线束发射的周边原本照射剂量较弱的区域内，对该区域内的照射剂量起叠加补偿的作用，增强样品覆盖区内近周边区域的照射剂量，缩小与近中心区域照射平面内的射线照射剂量的差异,达到提高射线照射剂量均一性的目的,环形反射体设置有可供选用的低位补偿效果明显的方形环状短筒型和低中位补偿效果均明显、由中空锥形底环和方形环状短筒相连构成的方形锥底环筒型,能满足各种不同使用要求,具有很强的实用性。

主权项

一种提高射线处理设备照射剂量均一性的方法，其特征在于通过设置一种具有反射射线能力较强、由低原子质量数、高密度材料制成的环形反射体，附加设置在射线处理腔的射线受照范围内非样品覆盖区的近底部侧壁位置上，射线处理设备工作时，射线束通过球管之后同时照射在样品覆盖区和非样品覆盖区内，照射在非样品覆盖区内的部分外围射线照射在所述的环形反射体上后发生反射、照射到射线束发射的周边原本照射剂量较弱的区域内，对该区域内的照射剂量起叠加补偿的作用，从而增强样品覆盖区内近周边区域的照射剂量，缩小与近中心区域照射平面内的射线照射剂量的差异，实现提高射线照射剂量均一性的目的：所述的低原子质量数、高密度材料由以碳化硼化合物为主料、碳和硼为辅料三者共混构成的高硼碳配比材料充任，三者的重量配比为：碳化硼90%‑95%、碳1%‑2%、硼4%‑8%；所述的反射体(6)根据受照样品的物理特性设置为低位补偿效果明显、由方形环状短筒(7)构成的方形环状短筒型反射体(8),或低中位补偿效果均明显、由中空倾斜状锥形底环(9)和方形环状短筒 (7)相连构成的方形锥底环筒型反射体(10)。