发明名称 置换镀金液和接合部的形成方法
摘要 本发明提供一种在形成依次层叠镍层、钯层、金层而成的接合部时,能够实现均匀膜厚的置换镀金液和镀敷处理技术。本发明的置换镀金液,用于在由导电性金属构成的导体层上形成依次层叠镍层、钯层、金层而成的接合部,其特征在于,该置换镀金液含有氰化金盐、络合剂和铜化合物,置换镀金液中的络合剂与铜化合物的摩尔比为络合剂/铜离子=1.0~500的范围,由络合剂和铜化合物形成的化合物在pH4~6下的稳定常数为8.5以上。
申请公布号 CN102597320B 申请公布日期 2015.07.08
申请号 CN201180004299.2 申请日期 2011.04.15
申请人 日本电镀工程股份有限公司 发明人 菊池理惠
分类号 C23C18/42(2006.01)I;C23C18/52(2006.01)I;H05K3/24(2006.01)I;H05K3/34(2006.01)I 主分类号 C23C18/42(2006.01)I
代理机构 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人 崔香丹;洪燕
主权项 一种置换镀金液,用于在由导电性金属构成的导体层上形成依次层叠镍层、钯层、金层而成的接合部,其特征在于,置换镀金液含有氰化金盐、络合剂、铜化合物;置换镀金液中的络合剂与铜化合物的摩尔比为络合剂/铜离子=1.0~500;由络合剂和铜化合物形成的化合物在pH4~6下的稳定常数为8.5以上,所述络合剂为选自于由乙二胺四乙酸、羟乙基乙二胺三乙酸、二乙三胺五乙酸、丙二胺四乙酸、1,3‑二氨基‑2‑羟基丙烷四乙酸、环己二胺四乙酸、乙二胺二琥珀酸以及它们的钠盐、钾盐或铵盐所组成的组中的一种以上,所述铜化合物为选自于由氰化铜、硫酸铜、硝酸铜、氯化铜、溴化铜、氰化铜钾、硫氰酸铜、乙二胺四乙酸二钠铜四水合物、焦磷酸铜、草酸铜所组成的组中的一种以上。
地址 日本国东京都