发明名称 集紫外光化学与化学气相干法表面处理的真空设备
摘要 本发明公开了一种集紫外光化学与化学气相干法表面处理的真空设备,主要由真空腔室、紫外光源系统、真空泵系统和真空设备控制系统组成,真空腔室由高真空内腔室和低真空外腔室组成:外腔室顶端固定紫外灯光源;内腔室具有高度可调节的样品台,其外置加热和水冷系统。还提供相应的真空设备使用方法。本发明能够准确控制紫外光化学和化学气相干法反应的过程,实现材料、器件等有效清洗和改性,它在材料和纳米光电子器件领域具有重要的应用价值。
申请公布号 CN102969227B 申请公布日期 2015.07.08
申请号 CN201210462171.7 申请日期 2012.11.15
申请人 上海交通大学 发明人 陶海华;张双喜;蒋为桥;王庆康
分类号 H01L21/02(2006.01)I 主分类号 H01L21/02(2006.01)I
代理机构 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 代理人 郭国中
主权项 一种集紫外光化学与化学气相干法表面处理的真空设备的使用方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1):依次打开真空设备主电源、真空控制系统的真空计和氮气阀门,真空腔室内的气压超过1atm后关闭氮气阀门,依次打开真空腔室的外腔室和内腔室;步骤2):将样品置于内腔室的石英样品台上,依次关闭内腔室盖、外腔室盖;步骤3):依次开启内腔室水冷系统和真空泵系统的机械泵电源,当真空度高于1Pa后,开启真空泵系统的分子泵;步骤4):内腔室本底真空度达到2*10<sup>‑4</sup>Pa后,关闭分子泵和内腔室气体输出阀门,打开真空控制系统的氧气气体流量计;内腔室达到1atm压强后,关闭气体输入阀门,开启紫外灯管主电源,设置光照时间,启动紫外光源的电源系统的控制开关;步骤5):紫外灯管照射结束后,关闭紫外灯管主电源,打开内腔室气体输出阀门,待真空度达到1Pa后开启分子泵,再等待真空度达到2*10<sup>‑4</sup>Pa后,依次关闭分子泵和机械泵;步骤6):打开Ar气体流量计和H<sub>2</sub>气体流量计,Ar和H<sub>2</sub>气体流量分别为200sccm和100sccm;待压强达到一个大气压后,开启内腔室加热装置,控制温度在30min内升至310摄氏度,并在此条件下保温两个小时后降温,控制降温速度为一个小时降温至80摄氏度;步骤7):开启机械泵,待真空度达到1Pa后关闭机械泵;步骤8):打开氮气输入阀门,真空腔室内气压大于1atm后依次打开外腔室和内腔室,取出样品;步骤9):依次打开机械泵和分子泵,保持腔室真空状态;步骤10):关闭真空腔室阀门,然后再依次关闭分子泵电源、机械泵电源、气压计、温度计、水冷系统和真空设备主电源。
地址 200240 上海市闵行区东川路800号