发明名称 涂布装置、涂布方法及电子器件
摘要 在使设于旋转的涂布对象物上方的涂布喷嘴移动而将涂布液以螺旋状涂布于涂布对象物的表面的过程中,使涂布液平滑且均一地涂布于涂布对象物的表面。在使设于旋转的涂布对象物(13)上方的前端面平坦的筒状涂布喷嘴20一边在与涂布对象物的旋转方向交叉的方向上相对移动、一边从涂布喷嘴前端的喷嘴孔(21)将涂布液(31)涂布于涂布对象物表面的过程中,形成向涂布喷嘴前端部的一部分倾斜的缺口部(22),由旋转控制单元(40)控制涂布喷嘴的旋转以使该涂布喷嘴中的缺口部位于旋转的涂布对象物上涂布液供给位置的上流侧。
申请公布号 CN102387869B 申请公布日期 2015.07.08
申请号 CN201080016725.X 申请日期 2010.05.28
申请人 中外炉工业株式会社;株式会社东芝 发明人 德本隆男;夏贞雄;肥田充弘;岩崎聡一郎;佐藤强;大城健一
分类号 B05C5/02(2006.01)I;B05D1/26(2006.01)I;B05C11/08(2006.01)I 主分类号 B05C5/02(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 刘多益
主权项 涂布装置,在使保持在旋转台上的涂布对象物旋转的同时,将前端面平坦的筒状涂布喷嘴导向该涂布对象物上方,使该涂布喷嘴一边在与涂布对象物的旋转方向交叉的方向上相对移动,一边从涂布喷嘴前端的喷嘴孔吐出涂布液,将涂布液涂布于涂布对象物的表面,其中,形成向吐出涂布液的涂布喷嘴的前端部的一部分倾斜的缺口部,并且设置旋转控制单元,该旋转控制单元以使该涂布喷嘴中的缺口部位于旋转的涂布对象物上涂布液供给位置的上流侧的方式控制涂布喷嘴的旋转;在由所述旋转控制单元控制涂布喷嘴的旋转时,以使涂布喷嘴的缺口部位于以下合成矢量的方向的同侧的方式使涂布喷嘴旋转,即,涂布喷嘴在与涂布对象物的旋转方向交叉的方向上相对移动的送液速度矢量和涂布喷嘴在从涂布喷嘴供给涂布液的位置上相对于涂布对象物法线方向的相对移动速度矢量的合成矢量。
地址 日本大阪府