一种激光双波段高反射介质膜及其制备方法

摘要

本发明涉及一种激光双波段高反射介质膜及其制备方法，属于光学器件技术领域。该高反射介质膜包括基底以及附着于基底上的光学膜系，该光学膜系由二氧化钛和二氧化硅交替叠加构成，特征结构为|(HLH)^^N S|。本发明的双波段高反射介质膜的设计结构简单，选用的TiO₂薄膜和SiO₂薄膜材料常见，工艺容易实现。本发明的双波段高反射膜具有对两波段光高反射率的特点，对790nm～860nm波段及1500nm～1650nm波段的反射率均大于99.5％。对其它波段光的反射率较低，具有一定的滤光作用。本发明的双波段高反射膜具有对激光能量的吸收少、能量损失小，光学性能稳定，膜层牢固可靠等特点。

主权项

一种激光双波段高反射介质膜，其特征在于：该高反射介质膜包括基底以及附着于基底上的光学膜系，该光学膜系包括二氧化钛层和二氧化硅层，其特征结构为|(HLH)^^N S|，其中，H表示二氧化钛层，L表示二氧化硅层，S表示基底；N表示(HLH)的周期数，7≤N≤100；每层二氧化钛层的厚度为118.9nm，每层二氧化硅层的厚度为188.3nm。