| 发明名称 | 一种提高介质/金属/介质电极光电性能的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种提高介质/金属/介质电极光电性能的方法，其特征是：在制备介质/金属/介质电极时，当依次完成底层介质薄膜和中间层金属薄膜的沉积后，先用氩等离子体辐照所述金属薄膜，然后再沉积上层介质薄膜。本发明通过氩等离子体辐照提高了介质/金属/介质电极的光电性能，使电极在导电性基本不变的情况下，光透过率得到明显提高；本发明的方法简单、易于实现。 | ||
| 申请公布号 | CN104766894A | 申请公布日期 | 2015.07.08 |
| 申请号 | CN201510164428.4 | 申请日期 | 2015.04.08 |
| 申请人 | 合肥工业大学 | 发明人 | 方应;何金俊;张康;张冰 |
| 分类号 | H01L31/0224(2006.01)I;H01B5/14(2006.01)I | 主分类号 | H01L31/0224(2006.01)I |
| 代理机构 | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 | 代理人 | 何梅生 |
| 主权项 | 一种提高介质/金属/介质电极光电性能的方法，其特征是：在制备介质/金属/介质电极时，当依次完成底层介质薄膜和中间层金属薄膜的沉积后，先用氩等离子体辐照所述金属薄膜，然后再沉积上层介质薄膜。 | ||
| 地址 | 230009 安徽省合肥市包河区屯溪路193号 | ||