发明名称 温控可充气真空辐射设备
摘要 一种在电子元器件辐射实验中使用的温控可充气真空辐射设备,包括:限定了辐照腔的罩体;携载电子元器件容装在辐照腔内的器件盘;可开闭的封盖结构,其连接于罩体的开口端,以在闭合时气密密封辐照腔;固定于封盖结构的线缆接头;温控系统,其包括辐照腔内的温控板以及穿过封盖结构的冷媒输入和排出管路,温控板的冷媒腔室经冷媒输入和排出管路接收和排出冷媒,其电加热装置电连接到线缆接头;以及抽空充气系统,其包括穿过封盖结构的抽空充气管路和辐照腔外的第一阀门装置,以经该阀门装置和抽空充气管路对辐照腔抽空或充气。本发明的辐射设备可为电子元器件辐射实验准确提供各种温度、气体成分环境,有利满足了电子元器件辐射效应研究的需求。
申请公布号 CN102339655B 申请公布日期 2015.07.08
申请号 CN201110252532.0 申请日期 2011.08.30
申请人 中国科学院微电子研究所 发明人 曾传滨;毕津顺;刘刚;罗家俊;韩郑生
分类号 G21K5/00(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I 主分类号 G21K5/00(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 薛峰
主权项 一种在电子元器件辐射实验中使用的温控可充气真空辐射设备,包括:一端开口的罩体,其内限定了辐照腔;用于携载所述电子元器件的器件盘,其可取出地容装在所述辐照腔内;可开闭的封盖结构,其连接于所述罩体的开口端,以在所述封盖结构闭合时气密密封所述辐照腔;线缆接头,其固定在所述封盖结构上并穿过所述封盖结构通入所述辐照腔内;温控系统,其包括设置在所述辐照腔内的温控板以及穿过所述封盖结构的冷媒输入管路和冷媒排出管路,其中所述温控板带有冷媒腔室和电加热装置,所述冷媒腔室经由所述冷媒输入管路接收冷媒,经由所述冷媒排出管路排出冷媒,所述电加热装置电连接到所述线缆接头,以可控地通电加热;以及抽空充气系统,其包括穿过所述封盖结构与所述辐照腔流体连通的至少一个抽空充气管路以及在所述辐照腔外连接于每个所述抽空充气管路的第一阀门装置,以经由所述第一阀门装置和所述抽空充气管路对所述辐照腔抽空或充入所需的气体成分。
地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号