POLISHING COMPOSITION AND POLISHING PROCESS USING THE SAME

摘要

폴리실리콘을 연마하는 용도로 보다 적합하게 사용 가능한 연마용 조성물 및 그것을 사용한 연마 방법을 제공한다. 본 발명의 연마용 조성물은 질소 함유 비이온 계면 활성제 및 지립을 함유하고, pH가 9 내지 12이다. 연마용 조성물 중의 질소 함유 비이온 계면 활성제의 함유량은 20 내지 500ppm인 것이 바람직하다. 연마용 조성물 중에 포함되는 지립은 콜로이드 실리카인 것이 바람직하다. 연마용 조성물 중에 포함되는 지립의 평균 1차 입자 직경은 10 내지 90㎚인 것이 바람직하다. 연마용 조성물 중의 지립의 함유량은 1.0 내지 5.0 질량％인 것이 바람직하다.