| 摘要 |
<p>본 발명은 금속 산화물 증착 장치에 관한 것으로, 반응 공간을 갖는 챔버와, 상기 반응 공간에서 기판을 안치시키는 기판 안치부 및 상기 기판 상에 금속 원료 물질과 반응 가스를 각기 분사하는 복수의 인젝터부를 포함하고, 상기 인젝터부는, 상기 금속 원료 물질을 분사하는 제 1 및 제 2 원료 물질 분사부와, 상기 제 1 및 제 2 원료 물질 분사부 사이에 마련되어 상기 반응 가스를 분사하는 반응 가스 분사부를 포함하는 금속 산화물 증착 장치를 제공한다. 이와 같이 두개의 원료 가스 분사부 사이에 반응 가스 분사부를 두는 복수의 인젝터를 통해 기판 전면에 균일 비율의 원료 가스와 반응 가스를 제공할 수 있고 이를 통해 균일 두께의 금속 산화물 박막을 증착시킬 수 있다.</p> |
