| 摘要 |
<p>본 발명은, 지지 기판(10)에 접착된 적어도 하나의 얇은 필름(4)과, 지지 기판(10)과 얇은 필름(4) 사이에서 용착에 의해 형성된 산화물 접착층(12)을 포함하는 합성구조(14)를 제작하는 방법에 관한 것이다. 얇은 필름과 지지 기판은 7 × 10K이상의 평균 열팽창 계수를 가진다. 산화물 접착층(12)은 지지 기판(10)의 접착면 및/또는 얇은 필름(4)의 접착면 상에서 산화물층의 저압 화학 증착(LPCVD)에 의해서 형성된다. 얇은 필름은 5 마이크로미터 이하의 두께를 가지고, 산화물층(12)의 두께는 얇은 필름(4)의 두께 이상이다.</p> |
